Lampes EXC
Les systèmes de lampes EXC de GEW utilisent des lampes à décharge sur barrière diélectrique (DBD) afin de produire des rayonnements ultraviolets sous vide quasi monochrome, généralement à 172 nm. Ces rayonnements sont généralement utilisés pour matifier les revêtements de surface, modifier la tension de surface pour une meilleure adhésion ou un meilleur nettoyage de surface pour les secteurs des semiconducteurs et médicales.
Les lampes EXC de GEW peuvent être produites à partir de 12 à 230 cm et personnalisées pour être intégrées à votre application spécifique, y compris la fourniture de l’ensemble de inertage à l’azote et du contrôle requis.Elles sont également faciles à intégrer au système UV GEW dans son ensemble, ce qui peut être requis pour la gélification ou après le séchage, afin que GEW puisse fournir une solution de séchage/nettoyage prête à l’emploi pour votre processus. Nos ingénieurs expérimentés veillent également au strict respect des normes de sécurité internationale.
Avantages de EXC
- Matification –
- Matage instantané activé/désactivé
- Des revêtements sans additifs pour une durabilité accrue et une simplification des processus
- Niveaux de brillance >2 G.U.
- Entièrement intégré dans le système de pré-gélification et de séchage UV final
- Nettoyage –
- Un nettoyage de haute efficacité sur une large gamme de substrats semiconducteurs
- Sans contact
- Modification de surface –
- Amélioration importante de l’énergie de surface
- Processus à froid pour les matériaux thermosensibles
- Génération d’UV à faible énergie et haute efficacité (jusqu’à 40 %)
Spécification EXC
| Puissance électrique maximale | 5W / cm |
| Pic de longueur d’onde | 172nm* |
| Rayonnement au point focal | 30mW / cm² |
| Longueur maximale | 230cm |
| Section transversale standard | 164mm W x 130mm H |
| Refroidissement | N2 / Air |
| Température de fonctionnement standard max. | 40°C (104°F) |
| Humidité standard max. | Non-condensing |
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Region, France:
David Lyus
Manager des ventes internationales
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